工場で稼働しているキヤノンのKrF半導体露光装置「FPA-6300ES6a」（資料写真、キヤノンのニュースリリースより）
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（湯之上 隆：技術経営コンサルタント、微細加工研究所所長）

「装置の帝王」の転落劇

　まだ日本半導体産業が競争力を持っていた1995年に、露光装置の出荷額シェアでニコンは48.9％、キヤノンは28.7％を占めており、合計すると日本は77.6％のシェアを独占していた。そして、この当時、露光装置でシェア1位だったニコンは、「装置の帝王」と呼ばれていた（図1）。

図1　露光装置の出荷額と企業別シェア（～2023年）
出所：モルガンスタンレー証券のデータを基に作成
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【本記事は多数の図版を掲載しています。配信先で図版が表示されていない場合はJBpressのサイト（https://jbpress.ismedia.jp/articles/-/81810）にてご覧ください。】

　ところが、1995年にシェア15.9％だったオランダのASMLが、その後、急速にシェアを向上させ、2002年にニコンとキヤノンを抜き去り、2010年にはシェア80％を超え、2021年には90％に達した。そして、2023年には、ASMLがシェア94.2％を独占する一方、ニコンは3.1％、キヤノンは2.8％までシェアが低下した。

　ASMLは、2008年以降に主力機となったArF液浸のスループットと稼働率で、日本勢を圧倒した。そして、最先端露光装置EUVでは、ASMLの独壇場となった。その結果、もはや、露光装置分野で日本の存在感は消滅したかに思われた（注）。

　ところが、露光装置の「出荷額シェア」ではなく「出荷台数シェア」を算出すると、まるで違った景色が見えてくる。以下で、詳細を論じたい。

（注）ニコンとキヤノンがASMLに敗北した原因については、筆者の以下の記事を参照いただきたい。「いつまでも『職人芸』では海外メーカーに勝てない　日本の半導体製造装置はなぜスループット、稼働率が劣るのか」（JBpress、2010年9月24日）