日本半導体・敗戦から復興へ
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「次世代露光装置」実現のカギ、
日本人の手でEUV光源の実現を!

2013.6.14(金) 湯之上 隆 follow フォロー help フォロー中
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図1 ASMLの企業別シェアの推移、出所:電子ジャーナル『半導体製造装置データブック』(1994~2012年)
図2 露光装置の稼働率の比較(左がある日本の量産工場での露光装置の稼働率、右があるアジアの量産工場で露光装置の稼働率)
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図3 露光装置の稼働率の比較
図4 半導体露光用エキシマレーザー光源出荷台数とギガフォトンのシェア、出所:ギガフォトンHP、技術情報、Technical Paper
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表1 EUVL光源メーカーの開発状況
図5 LPP(Laser Produced Plasma)方式のキーポイント、出所:岡崎信次氏の発表資料を参考に筆者作成
図6 10億ドル(1000 M$)を超える主要装置分野、Electric Journal 『半導体製造装置データブック』を基に筆者作成
図7 主要製造装置分野のメーカー別シェア(2011年)、Electric Journal 『半導体製造装置データブック』を基に筆者作成
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表2 日本が弱くなった装置分野
表3 日本が強い装置分野

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