日本半導体・敗戦から復興へ

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「次世代露光装置」実現のカギ、
日本人の手でEUV光源の実現を！

2013.6.14（金）湯之上隆

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図1　ASMLの企業別シェアの推移、出所：電子ジャーナル『半導体製造装置データブック』（1994～2012年）

図2　露光装置の稼働率の比較（左がある日本の量産工場での露光装置の稼働率、右があるアジアの量産工場で露光装置の稼働率）
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図3　露光装置の稼働率の比較

図4　半導体露光用エキシマレーザー光源出荷台数とギガフォトンのシェア、出所：ギガフォトンHP、技術情報、Technical Paper
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表1　EUVL光源メーカーの開発状況

図5　LPP（Laser Produced Plasma）方式のキーポイント、出所：岡崎信次氏の発表資料を参考に筆者作成

図6　10億ドル（1000 M$）を超える主要装置分野、Electric Journal 『半導体製造装置データブック』を基に筆者作成

図7　主要製造装置分野のメーカー別シェア（2011年）、Electric Journal 『半導体製造装置データブック』を基に筆者作成
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表2　日本が弱くなった装置分野

表3　日本が強い装置分野

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井元康一郎

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