「中国が『EUV露光装置』試作機完成」の衝撃…世界の半導体秩序は抜本的に書き換えられてしまうのか？
中国・上海で開催された半導体の展示会「セミコン・チャイナ」にASMLが出展したブース（資料写真、2025年3月26日、写真：CFoto/アフロ）
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図2 LPP（Laser Produced Plasma：レーザー生成プラズマ）方式
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図3 2007年2月、リソグラフィの国際学会SPIEにて
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図4 2013年、EUVが太陽系に突入してきた
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図5 TSMCが2019年に7nm+にEUVを適用した
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図6 半導体メーカー各社の累積EUV保有台数と世界全体の合計
出所：Bank of Amerca Global Researchの推定値（2021～2025年）と筆者の推測値（2016～2020年）
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出所：Bank of Amerca Global Researchの推定値（2021～2025年）と筆者の推測値（2016～2020年）
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