東芝メモリに期待! NAND高密度化のイノベーション 3次元NANDはまるで高層ビルのようである(写真はイメージ) (画像1/7) 図1 3次元NANDフラッシュメモリの積層数 (画像2/7) 図2 NANDフラッシュメモリの高密度化の推移 (出所:福田昭『徹底プレビュー「メモリ編:次世代大容量フラッシュと次世代高速DRAMに注目』(EE Times Japan、2015年1月19日)の図、ソースは、ISSCC 2015 Tokyo Press Conferenceの資料) (画像3/7) 図3 クロストークを回避するために3次元化したNAND (出所:Jung, Samsung, Flash Memory Summit, Aug 2013) 拡大画像表示 (画像4/7) 図4 2次元NANDと3次元NANDの比較 (出所:東芝のHP) (画像5/7) 図5 3次元NANDのメモリセルの工程フロー (出所:東芝のHP) (画像6/7) 図6 3次元NANDの積層数と深孔のアスペクト比 (画像7/7) 東芝メモリに期待! NAND高密度化のイノベーション この写真の記事を読む