「ムーアの法則」はまだまだ終わらない! 図1 急ブレーキがかかる微細化 (出所:日経エレクトロニクス、2015年4月号、30ページの図30) (画像1/5) 表1 インテルの微細化のトレンド (出所:大原雄介「半導体プロセスまるわかり 新技術導入で浮上した銅汚染問題」) (画像2/5) 図2 インテルMPUの技術世代(量産開始時期) (画像3/5) 図3 各種半導体デバイスの量産開始時期 (出所:日経エレクトロニクス、2015年4月号、30ページの図30を基に筆者作成) (画像4/5) 図4 2013年版の国際半導体技術ロードマップ(ITRS) (画像5/5) 「ムーアの法則」はまだまだ終わらない! この写真の記事を読む